2024-11-19 19:32:09
随着科技的飞速发展,芯片已经成为现代电子设备的核心。它们不仅控制和操作着各种设备,还决定着这些设备的性能和功能(还TMD决定着工资、房价、肉价……)。本文将向您介绍不同类型的芯片及其特点和应用。
首先,让我们来了解一下芯片的基本概念。芯片,也称为集成电路或微处理器,是一种将大量电子元件(如晶体管、电阻、电容等)集成在一块小硅片上的微型电子器件。根据功能、用途、工艺、原理等等,芯片的分类方式可谓是多种多样、五花八门、乱七八糟,今天就给大家捋一捋:
按照应用功能分为逻辑芯片、存储芯片、传感器芯片、电源芯片和通信芯片五大类。每个大类又可细分为若干小类。
如果按照工作原理,芯片可以分为模拟芯片和数字芯片两大类。
按照半导体芯片的工艺制程的演进历史又可以分为:
1984年,ASML成立。
2003年,ASML与台积电合作推出浸没式光刻机,至此ASML一举超越其他厂商,后来者居上。而同为光刻巨头的日本尼康、日本佳能主推的157nm光源干式光刻机被市场逐渐抛弃,两家公司由盛转衰。
2013年,ASML推出第一台EUV量产产品,NXE:3300正式发货,进一步加强行业垄断地位。
光刻机是国内最受关注的半导体设备,也是严重被卡脖子的设备,它的主要作用就是进行光刻制造,直接决定了半导体工艺制程上限。请参考:全球光刻机行业概览
你是否曾好奇,为什么半导体工艺制程是130nm、90nm、65nm、45nm、40nm、32nm、28nm、22nm、14nm、10nm、7nm、5nm、3nm这样发展51漫画?真的是摩尔定律的“摩”咒吗?欢迎查阅作者主页文章解惑:摩尔定律的“摩”咒
我们通常所说的第一、二、三、四代半导体,就是根据衬底或外延的材质来划分的。就是说,只要你用到了新一代的材料,不管是衬底还是外延,就都可以自称是新一代的半导体。比如说,你用单晶硅做衬底,然后在上面生长GaN外延,因为用到的材料里有GaN,所以硅基GaN也算是第三代半导体。
啥是衬底?啥是外延?你还傻傻分不清楚吗?可以参考这篇文章:衬底与外延,这俩到底是啥关系?这回帮你捋顺了!
按照集成电产业的顺序,芯片又包含硅片制作、IC设计、晶圆制造以及封装测试五大流程。
芯片的制造可以分为前道工艺和后道工艺。前道工艺包括光刻、刻蚀、薄膜沉积、离子注入、清洗、化学机械抛光、量测等工艺。后道工艺包括减薄、划片、装片、键合等封装工艺以及终端测试等。
说出来你可能不信,我们不仅光刻机造不出来,就连放光刻机的洁净室都造不了!不信就看看这篇:半导体制造的洁净室,到底有多干净?
根据需求差异,芯片的分类方式纷繁复杂,并没有一个固定的标准(其实更多时候就是非专业人士的YY,或者企业宣传的噱头罢了)。完全没有必要把每种分类都牢牢记住,有个大致印象,知道怎么回事就足够了,需要的时候提前再去查就行。
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